Китайская отрасль производства чипов демонстрирует стабильное развитие

Министерство промышленности и информационных технологий Китая (MIIT) недавно представило новый список отечественного оборудования, включая два литографических сканера, которые вызвали интерес международных СМИ. Эти системы, хотя и демонстрируют некоторые технологические достижения, все еще отстают от передовых мировых стандартов.
Технические характеристики сканеров:
- Один из сканеров использует источник света на основе фторида криптона (KrF) с длиной волны 248 нм и точностью наложения менее 25 нм, что позволяет достигать разрешения 110 нм на 12-дюймовых пластинах.
- Другой сканер работает на основе фторида аргона (ArF) с длиной волны 193 нм и точностью наложения менее 8 нм, обеспечивая разрешение 65 нм на тех же пластинах.
Несмотря на эти характеристики, MIIT не предоставило информации о производителе машин или их производительности в час. Более того, отсутствуют данные о возможностях выравнивания элементов, что является критически важным для оценки уровня их технологической зрелости.
С момента введения ограничений США на экспорт технологий в Китай в октябре прошлого года, уровень допустимой точности для систем с выделенной накладкой патрона (DCO) стал более строгим. Это создает дополнительные трудности для китайских производителей чипов, которые стремятся конкурировать с международными игроками, такими как ASML, чьи машины способны достигать значительно более высоких уровней разрешения и точности.
Хотя китайские компании, такие как Huawei и SMIC, добились определенных успехов в производстве чипов с использованием старых технологий, они сталкиваются с низкими выходами и высокими затратами. Это подчеркивает необходимость дальнейших инвестиций и разработок в области литографии для достижения конкурентоспособности на глобальном рынке полупроводников.

23.09.2024